台积电冲刺先进制程，高雄2nm厂扩建

台积电高雄新厂2nm进度超前，有意扩大高雄投资，规划于前中油高雄炼油厂土地兴建第三期厂房（P3），第四期（P4）、第五期（P5）也启动环评，并争取扩大开发面积，将在P3东侧接续扩建，延续先进制程。根据规划，P3厂在2026年完工后，预计P4、P5厂也将在2027年接力完工。

法人看好，台积电扩大高雄先进制程投资，意味客户订单持续涌入，公司有必要增加更多产能，为后续运营增添更多动能。

台积电在中国台湾布局2nm，新竹宝山、高雄新厂两路并进，预计2025年量产。高雄厂是台积电在当地的首座12英寸厂，原定以成熟制程切入，2023年8月董事会拍板朝2nm扩充发展，原规划相关设备最快2025年第三季进机，已提前至11月底进机，较原计划超前半年以上。

台积电高雄厂布局顺遂，规划在原中油高雄炼油厂土地内兴建P3，但全球半导体业急剧变动及国际竞争力，基于产业制程全球布局考量，仍具紧迫持续推动建厂运营需求，规划在P3厂房旁土地启动扩建P4、P5计划，发挥产能群聚综效。

根据环评数据，台积电正争取扩大P4、P5开发面积，原本10月规划面积约41公顷，最新定案面积增至43公顷左右，加计原申请的P3厂面积后，合计基地面积约60公顷。台积电12月26日将召开“原中油公司高雄炼油厂土地新建半导体厂扩建计划”环境影响说明书公开会议，正式对外说明。

台积电在一期园区启动第一期（P1）、第二期（P2）建厂后，今年启动P3扩建计划，但扩厂用地迫切，决定在P3厂旁接续启动P4、P5厂扩建计划。