哈工大的曙光让ASML沉默，中芯国际等一台国产EUV

文/王新喜

近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源，但这个消息出来这么久了，美国、ASML与台积电一直保持沉默，但近期新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台表态看好中芯国际，认为其将利用本土优势在全球市场与台积电竞争，并有望在市值上追平台积电。

王国辉出生于马来西亚，拥有超过40年的投资经验，他在2002年创立了毕盛资产管理有限公司，后将公司的发展战略转向专注于投资中国市场‌，对中国市场有着深刻的理解。而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV光刻设备，那么芯片战就会结束。

这背后是看到了国产EUV光刻机技术突破越来越近，中芯国际未来或有望实现跨越式发展。

哈工大这次突破的光源技术波长是13.5纳米，美国Cymer公司使用的是传统的LPP技术，而哈工大使用是的则是DPP技术，也就是放电等离子体极紫外光刻光源，与荷兰采用透镜技术获得极紫光不同，哈工大是通过粒子加速辐射取得了极紫光，这一创新性的方法展示了中国在光刻机领域的弯道超车能力与进化速度，其效率更高，难度更大，但精准度更高！

当然一台顶级的EUV光刻机需要的不仅是顶级的光源系统、还要有物镜系统、双工件台、控制系统四大件组成。其中物镜系统ASML使用的是来自于蔡司的光学物镜系统。

从技术层面来看，以四大件为核心高端EUV光刻机是非常难以颠覆与超越。首先是体系小，功率高且稳定极紫外线光源，这点美国Cymer公司一直掌握着成熟技术，但这次哈工大的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目成功解决了13.5纳米波长极紫外光的生成问题，还具备了能量转换效率高、成本低、体积小、技术实现难度适中等多项优点，不仅能够提供更高的带宽，而且大幅降低了功耗，展现出跨越摩尔定律限制的巨大潜力。

这项技术一旦成熟并且满足商用量产需求，将直接满足国内市场对EUV光刻光源的需求，解决了光刻机研发的一个重要卡脖子攻坚项目，而中芯国际面临技术瓶颈，就在极紫外（EUV）光刻机研发方面。

现在华为的7nm工艺在性能上能做到接近5nm，但这只是表面性能，没有EUV设备的支持，5nm的真正门槛还是过不去。

而中国在芯片制造领域的技术储备和创新能力是非常强的，中国每年培养约500万名理工科毕业生，这为中芯国际提供了大量的工程技术人才。

正如王国辉指出，中芯国际现在等的就是一家本土的EUV光刻机。而哈工大在光源技术上的突破，意味着我国有望绕过ASML的技术封锁，做出本土EUV光刻机，如果未来国内各个厂商主流芯片都能用上，中芯国际的体量与规模有望翻番式增长，台积电就会岌岌可危。

ASML沉默背后

光刻机的光源占据7成以上的重要性，按理说，这么重大的技术突破，影响最大的会是ASML与台积电，但两者都表现非常沉默，这背后，一半是焦虑，一半是不相信，还是认为中国人不可能自主造出EUV光刻机。ASML的CEO此前在公开场合直接说，中国芯片厂商和世界领先水平还差10到15年。每一代技术都靠时间、经验和巨额投入砸出来。设备差一个代际，后面的工艺就很难追上。

如前所述，光刻机的光源，物镜系统，工作台，都需要顶级的镜头以及极致的机械精度与复合材料。就算光源技术过关了，整机的集成能力和产业化能力也需要进一步攻克，而光刻机的元器件就有10万个。

此外哈工大EUV光源要从技术验证到真正量产，仍然有不少问题需要解决，比如光源稳定性提升、系统优化、商用化适配等。

此外，与光刻机配合的，还有芯片制造工艺，这方面台积电领先全球，每一代技术都在提前布局，不怕砸钱，2023年它在研发上的投入高达360亿美元，目前已实现3nm量产，更先进的2nm已经在研发。

因此，ASML的护城河很高，要短时间颠覆它的技术与设备，并不是那么容易。

不过，哈工大团队其实早在2022年就推出了光源样机，2023年完成了原型机研发，2024年上半年通过了关键测试，现在终于拿下了大奖。

而且从2023年10月左右开始，到2024年5月17日获得批复，由国仪超精密集团的哈尔滨公司主导，投资总额高达11亿元。短短半年时间，哈工大就已经掌握了七项光刻机核心技术，成果突破速度是非常快的。

ASML或低估了中国速度与潜力

很大概率上，ASML可能依然低估了中国光刻机的研发进度。实际上现在麒麟9020能做出来7纳米技术，其实说明或已解决了物镜系统和双工件和控制系统。所以这也是为什么有博主说麒麟9020以后可以正常更新的原因。

从技术上来说，哈工大光源技术后续需要整个芯片产业链配合与联动，中国速度一般都会超出西方预期发展。而且国产光刻机的性能一旦达到了国际先进水平，中国的成本更低，性价比极高，芯片制造成本有望因此得到大幅度压缩。而且一旦我们自己掌握了这项核心技术，就能够衍生出更多更深层次的应用，在芯片代工制造领域也将迎来高速发展阶段，间接带动中芯国际的产能与技术突破。

现在中芯国际已经开始打价格战了，降价很猛，也能侧面说明国内芯片制造工艺的良率在大幅提升。其实5nm已经足够强了，一旦EUV光刻机突破，5nm以下的良率提高，中国芯片真的就没什么短板了。

中芯国际等一台国产EUV

根据王国辉的说法，在美日荷等国的技术封锁下，中芯国际至少在2026年前仍可能无法获得先进的半导体制造设备，这将限制其向先进制程技术的推进。但根据清华大学法学博士蔡正元的预测，希望2028年之前国产EUV光刻机能够诞生。从他对时间点的预判来看，中芯国际等待的国产EUV或还需要几年时间，届时台积电与中芯国际将迎来决战时间点。

如前所述，台积电成功的背后，本质上依赖一套成熟的供应链和合作体系，全球最好的光刻机ASML、材料和技术团队都跟它合作，这也是制约中芯国际增长空间的供应链短板。

台积电目前的市值已经突破了1万亿美元，而中芯国际市值仅为约1000亿美元不到，按照王国辉的预测，国产EUV光刻机一旦到来，中芯国际或迎来数倍涨幅。

从这一技术突破来看，哈工大真是神奇的学校，国家栋梁的培养基地，这无疑给其他高校树立了表率，只有越来越多的高校有哈工大的不畏难的攻坚精神与创新能力，与国家科技发展的方向同频共振，才能为我国的科技突破提供持续的人才与创新支撑力，那我们的光刻机可能才会更早的问世！